- 适用于严苛工艺
- 坚固耐用的设计
- 使用温度范围广
- 低能耗
UltiDry
多级罗茨真空泵
UltiDry 多级罗茨真空泵专为半导体制造中要求严苛的工艺需求而设计。其坚固的结构使其能够处理腐蚀性气体和腐蚀性副产品,同时只需较少的能耗和维护。
得益于无油设计和多级压缩,这些真空泵非常适合在半导体应用、涂层和其他高要求环境中产生洁净干式真空。
UltiDry
灵活节能的半导体工艺流程解决方案
UltiDry 的优势
UltiDry 多级罗茨真空泵专为在具挑战性的工业环境中可靠运行而设计。其多级压缩技术可确保清洁、干燥且无污染的真空产生——这对化学气相沉积或原子层沉积等半导体行业的敏感工艺至关重要。即使暴露于腐蚀性气体或重粉末负载下,UltiDry 真空泵也能保持长正常运行时间和稳定性能。
获得专利的吹扫喷射系统通过冲洗出粉末等污染物来保护真空泵。这可改善操作过程中的粉末管理,最大限度降低污染风险,确保稳定运行。
UltiDry 真空泵功率消耗低,与竞争产品相比,节能高达 87%。它们可在 50 至 270 °C 的广泛温度范围内可靠运行,适用于物理气相沉积等温度敏感的工艺。耐腐蚀性涂层可确保真空泵能够在化学气相沉积等应用中处理腐蚀性气体。