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生产洁净真空的可靠解决方案

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的多级罗茨泵采用精密设计的转子,转子之间及转子与泵体均无接触。这种设计使压缩腔体无需润滑剂即可运行,确保生成干燥无油的真空环境,因而成为半导体制造、真空镀膜以及化工和制药工艺等需要洁净真空的广泛应用领域的理想选择。
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Pfeiffer 普发多级罗茨泵的类型

多级罗茨泵可实现低至 10 -4 hPa 的极限压力。其非接触式运行无需润滑,确保产生无油、无颗粒的真空环境,非常适合半导体制造、真空镀膜、化工和制药行业等洁净干燥的真空工艺。得益于坚固的结构设计,这些真空泵使用寿命长,且维护需求极低。部分型号采用先进的防护涂层材料,提高了在腐蚀性环境中的气体兼容性,适用于苛刻的工艺和高价值气体管理应用,例如:多晶硅刻蚀或化学气相沉积(CVD)。

我们的多级罗茨泵符合多项国际标准认证,包括 CE、UL/CSA 及 SEMI S2 认证。

适用于洁净工艺的应用

适用于洁净工艺应用的多级罗茨泵

Pfeiffer 普发的多级罗茨泵兼具出色的耐用性和高运行可靠性。它们非常适合需要洁净、无油和无颗粒真空环境的应用,例如半导体制造或真空镀膜。

洁净真空应用的理想解决方案

ACP 系列A 100 L 和 A 200 L 系列以及 TORRI BD 真空泵是专为需要高纯度和运行可靠性的洁净工艺而设计的先进解决方案。

ACP 系列采用变速驱动、风冷系统,凭借精确校准的间隙实现非接触式运行,维护需求极低,可提供稳定的性能和耐用性。这些特点使得该系列真空泵能够高效运行,并且有多种型号可供选择。每种型号均针对特定应用进行了优化:从处理洁净、无腐蚀性的气体到处理微量腐蚀性气体工艺均能胜任。ACP 系列内置气镇阀,有效提高对轻质气体的抽速,并防止泵内发生冷凝。这些特性使 ACP 系列成为半导体制造、医疗和制药行业以及研发等领域干式真空工艺的理想选择。

A 100 L 和 A 200 L 系列采用紧凑型设计,提供灵活的水平/垂直进气口连接方案,便于无缝集成至现有系统中。凭借其出色的性能和能效,它们能够快速处理大量气体,在 Load lock 和传送室中实现快速、频繁的抽真空循环。

另一种适用于 Load lock 的解决方案是紧凑型 TORRI BD 真空泵。凭借久经验证的工作原理,它们能够实现高能效、低极限压力以及同类领先的腔体抽真空时间。

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适用于严苛化学应用

适用于严苛化学应用的多级罗茨泵

在半导体和镀膜工艺中,存在如化学气相沉积(CVD)等需使用高腐蚀性和强侵蚀性化学品的严苛甚至极端严苛的应用。这对真空泵的防腐蚀保护和温度控制能力提出了极高的要求。

适用于严苛化学工艺的高可靠性干式真空泵

我们的 A4 系列多级罗茨泵为涉及腐蚀性气体和腐蚀性化学品的流程提供高度可靠和高效的解决方案。由于采用耐腐蚀性材料,这些真空泵非常适合处理腐蚀性气体,同时提供稳定可靠的性能。A4 系列非常适合半导体蚀刻、化学气相沉积(CVD)以及其他严苛的化学工艺等挑战性应用,确保可靠运行和出色的耐用性。

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产品
额定抽速范围
A100L/A200L
100 - 200 m3/h
ACP
15 - 90 m3/h
TORRI
100 - 600 m3/h
UltiDry
1,200 - 3,000 m3/h
A4
110 - 3,000 m3/h
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适用于腐蚀性极强的应用

应用

多级罗茨泵广泛用于各种行业,在众多高科技应用中发挥着至关重要的作用。它们在半导体制造领域尤为重要,它们能够在 Load lock 腔、传送室和工艺室中营造所需的真空环境。它们还支持表面分析仪、检漏仪或粒子加速器等设备的运行。这些真空泵还广泛应用于实验室或各种干燥和清洁工艺中,如真空镀膜或等离子清洗——任何需要洁净可靠真空的场合,皆可胜任。

每个应用场景都独具特性,与之匹配的真空解决方案亦需量身定制。请联系我们的专家团队,他们将帮助您找到满足您的特定需求的最佳解决方案。

找不到与您的应用相匹配的产品?试试我们的产品查找器,了解更多定制化选项!

常见问题解答

什么是多级罗茨泵?

多级罗茨泵属于容积式真空泵,专为提供洁净无油的真空环境而设计。泵送介质会依次通过多个泵级。在每个泵级中,至少有两个反向旋转的转子将泵送介质向前输送,直至其在最后一个泵级被排出。通过使用串联的多个泵级,多级罗茨泵可实现比罗茨泵更高的压差和更低的极限压力。

Pfeiffer 普发 A4 系列等多级罗茨泵凭借坚固耐用的设计与防腐蚀涂层,对强腐蚀性气体和颗粒具有高耐受性。得益于这些特性,它们非常适合需要洁净干燥真空的严苛应用,如半导体制造、真空镀膜、分析以及研发等领域。

多级罗茨泵的工作原理是什么?

多级罗茨泵由串联排列的多个泵级组成。每个泵级均设有旋转转子,用于将被泵送介质逐级输送通过整个泵体。传输通道调节介质在各泵级之间的流动,而齿轮组则同步转子的运动,以防止转子之间或转子与腔体发生接触。

其工作原理可分为以下三个步骤:

1. 进气(第一泵级):

  • 泵送介质通过进气口进入真空泵。
  • 转子以相反方向同步旋转,彼此之间不会相互接触或接触腔体,无需润滑。
  • 旋转过程中形成的密闭腔体将泵送介质捕获并输送至下一泵级。

2. 多级压缩:

  • 介质在通过每个泵级时逐渐被压缩。
  • 每个泵级的传送通道将压缩后的介质释放到下一泵级。

3. 排气(最后一级):

  • 在最后一个泵级中,介质被再次压缩,并通过排气口排出泵外。

多级罗茨泵是否具备耐化学腐蚀性?

多级罗茨泵专为处理各种化学品(包括腐蚀性和侵蚀性物质)而设计。从酸类、溶剂到气体和蒸汽,这些泵能够高效可靠地处理多种化学物质。Pfeiffer 普发的 A4 系列采用尤为坚固的结构和耐腐蚀材料,例如:特殊的防腐蚀镀膜。结合集成加热器等温度控制功能,它们有助于防止冷凝和产生副产物等不必要的化学反应。

如何选择合适的干式真空泵?

所需的多级罗茨泵类型取决于其具体应用的工艺需求。不同的应用对抽速、极限压力、进气流量大小和气体处理能力有着不同的要求。例如,在半导体制造领域,为满足快速抽真空循环的需求,通常更倾向于选择高流量的紧凑型多级罗茨泵。相比之下,表面分析仪和检漏仪可能需要配备特定气体端口选配件的型号。此外,在粒子加速器中,具备抗辐射能力的型号至关重要。因此,了解每种应用的独特需求,对于选择最合适的多级罗茨泵至关重要,这样才能确保其发挥最佳性能与能效。

为什么 Pfeiffer 普发多级罗茨泵是镀膜工艺的理想之选?

Pfeiffer 普发的多级罗茨泵能够满足镀膜工艺的严苛要求,成为这些应用的理想选择。

1. 洁净干燥的真空环境: 多级罗茨泵可产生洁净干燥的真空环境,这对于镀膜工艺至关重要,可以有效防止污染。

2. 高运行可靠性:其非接触式运行方式可最大限度地减少磨损,并确保了长期稳定的性能,这一特性对于工艺稳定性和正常运行时间要求极高的镀膜工艺尤其重要。

3. 高能效: 我们的许多多级罗茨泵型号都配备了变速驱动装置,从而降低了能耗。在镀膜工艺中,由于设备通常需要连续运行或长周期运行, 节能效果对总体运营成本有着显著影响。

4. 耐用性: 这些真空泵专为处理弱腐蚀性气体和冷凝物而设计。例如:ACP 120 G 配备了氮气气镇阀系统,A4 系列则采用了防腐蚀镀膜,特别适合涉及可冷凝或具有腐蚀性物质的镀膜工艺。

5. 紧凑型结构: 紧凑型多级罗茨泵(如 TORRI BD、A 100 L 和 A 200 L)可轻松集成到现有半导体系统中。在空间有限的镀膜装置中,这种小尺寸设计具有特别优势。

罗茨泵和多级罗茨泵之间有什么区别?

罗茨泵和多级罗茨泵均基于久经验证的罗茨原理运行,使用至少两个反向旋转的转子将泵送介质输送通过系统。但二者在设计和功能上存在本质区别:

罗茨泵需要与前级泵配合使用,以提升系统的抽速并增强整体性能。与传统真空泵不同,它不会对泵送介质进行内部压缩。而是将其传输至前级泵,在那里完成实际的压缩过程。

相比之下,多级罗茨泵采用串联式多级结构设计, 介质在排出泵体前,会依次通过各级压缩腔进行渐进式压缩。