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1.3 影响现实真空系统的因素

1.3.1 污染

当对真空室进行抽空时,为尽快达到所需压力,真空室必须 清洁。真空系统典型的污染物包括

  • 真空系统生产过程产生的残留物 表面、螺丝钉和密封件上的油脂和润滑剂
  • 与应用相关的污染物 过程反应产物、灰尘和颗粒
  • 环境相关的污染物 冷凝蒸汽,特别是吸附在容器壁上的水分。


因此,在组装真空设备时必需确保部件尽可能清洁干净。真 空室中安装的所有部件必须干净、无油脂。安装的所有密封 也必须无油。如果不能避免使用真空润滑脂,则必须非常小 心地使用真空润滑脂,总而言之,是作为润滑剂用以辅助安 装,而不是用作密封剂。如果涉及到高真空或超高真空系 统,在装配过程中必须佩带清洁、不掉毛、无粉尘手套。

1.3.2 冷凝和蒸发

所有物质都有液体、固体或气体三种状态。他们的聚集状态 由压力和温度决定的。液体通过蒸发转化为气态,固体通过 升华转化为气态。将液体或固体从气相分离出来称为冷凝。 由于正常的环境空气中每立方米大约含有 10 g 水蒸气, 所以 冷凝的水蒸气存在于所有物体表面。

由于水分子的强极性,表面的吸附特别明显。天然纤维,特 别是纸张,在真空条件下的干燥过程中,会有大量水分逸 出。冷凝器用于分离水蒸气。甚至某些金属(镉、锌、镁) 在几百摄氏度高温下也可大量蒸发。因此,应避免在设备制 造中使用这些金属。

1.3.3 解吸、扩散、渗透和泄漏

除水之外,其它物质,如真空泵工作液也可吸附在表面。 物质也可从金属壁中扩散出来,这在残余气体中可检验出来。 在特别严格要求的情况下,不锈钢容器可在真空条件下烘烤, 从而促使大多数挥发性成分从金属壁中释放出来。

解吸

气体分子(特别是水)通过吸附和吸收粘着在真空室的内表 面上, 并在真空下再次逐渐解吸。在真空系统中,金属和玻 璃表面因解吸所产生的放气量随覆盖率的下降和时间的推移 而下降。一般假设在给定时间点 t>>t0 后, 下降将以线性规律 随时间变化,就能得到很好的近似值。t0 通常假定为一小时。

气体量因此可描述为:
  • 𝑄des​ 解吸率 [Pa m³ s⁻¹]
  • 𝑞des​ 解吸流密度 (特定面积) [Pa m³ s⁻¹ m⁻²]
  • 𝐴 面积 [m²]
  • 𝑡 时间 [s]


带解吸的扩散

在低于 10-6 hPa 的作业中,塑料, 特别是密封件的表面解吸 影响更大。塑料释放的主要是溶解于这些塑料内部的气体, 这 些气体首先必须扩散到表面。因此,随着泵停机时间的延长, 从塑料中解吸出的气体相比于从金属表面而言占主导地 位。 虽然密封件的表面积相对较小;其解吸率随时间的下降却 远远慢于金属表面解吸率的下降。作为近似值,可假定解析下 降过程随时间的平方根变化。

塑料表面产生的气体因此可描述为:
  • 𝑄diff 扩散率 [Pa m³ s⁻¹]
  • 𝑞diff 扩散流密度 (特定面积) [Pa m³ s⁻¹ m⁻²]
  • 𝐴𝑑 容器中的塑料材料表面积 [m²]
  • 𝑡 时间 [s]
类似的情况也发生在压力更低的金属中,其中, 氢和碳以 CO 和 CO2 的形式逸出,并可在残余气体谱中看到。在这方 面, 公式 1-33 也适用。


渗透和泄漏

密封件,甚至金属壁,通过扩散都可被小的气体分子渗透, 比如氦。 由于该过程不是时间的函数,因此导致极限压力持续增加。 渗透气体量与横跨壁厚的压力梯度和材料相关的渗透常数成 正比。
  • 𝑄 perm​ 扩散率 [Pa m³ s⁻¹]
  • 𝑝𝑎 容器外的压力 [Pa]
  • 𝑑 壁厚 [m]
  • 𝐴 容器表面积 [m²]
  • 𝑘perm​ 渗透常数 [m² s⁻¹]

渗透首先在压力低于 10-8 hPa 时表现出来。

QL 描述漏孔漏率,即通过漏孔进入真空系统的气体流 量。泄漏率可定义为压力在一定容积内随时间的上升:
  • 𝑄𝐿 泄漏率 [Pa m3 s-1]
  • Δ𝑝 测量期间的压力变化量[Pa]
  • 𝑉 容积[m3]
  • Δ𝑡 测量时间 [s]

如果以体积流率 S 对容器进行连续抽空,在气体流量(公式1-16)等于泄漏率 QL = S · peq. 时,将会产生平衡压力peq。

如果平衡压力 peq 大约是工作压力的 10 %,则认为系统具有足够好的气密性。举例而言,如果要获得的工作压力为 10-6 hPa 且正在使用的真空泵抽速为 100 l s-1,泄漏率应该不超过 10-6 Pa m3 s-1

在清洁的不锈钢容器中,能够轻松地获得 QL< 10-9 Pa m3 s-1 泄漏率。

要在给定时间段 t内达到极限压力主要取决于上述的所有影响因素,以及真空泵的抽速。前提当然是取决于真空泵的极限压力。
通过使用 公式 1-36 以及求解与时间有关的方程, 可计算在 给定抽吸时间t下的各种气体流量和产生的压力。极限压力是 这些压力之和。

1.3.4 烘烤

为获得超高真空范围 (<10-8 hPa) 内的压力,必须满足以下条件:

  • 真空泵的本底压力应该低于所需极限压力的 10 倍。
  • 真空室和部件所使用的材料必须针对最小出气量进行优 化,并且具有适当等级的表面处理。
  • 应该使用金属密封件(例如,CF 法兰连接或 ISO 法兰标 准的螺旋挠性密封件)。
  • 清洁处理是获取超高真空的必要条件,即:所有部件必须 在安装前彻底清洗并必须佩带无油脂手套进行安装。
  • 设备和高真空泵必须进行烘烤。
  • 在启动加热器之前,必须进行真空检漏。为此,必须使用 氦检漏仪或四极杆质谱仪。

烘烤显著增加解吸率和扩散率,而且这会导致抽吸时间大大 缩短。 作为制造工艺的最后一个步骤,UHV 用途的腔室可在 温度高达 900 °C 时进行退火。后续烘烤温度可能达到 300 °C。 泵制造商有关高真空泵法兰最高烘烤温度的说明通 常将最高温度限制为 120 °C。如果在真空设备中使用热源 (例如,辐射加热),则不得超过允许的辐射功率。

设备在安装完毕后投入运行。在达到 10-5 hPa 的压力后,开 启加热器。在加热过程中,每间隔 10 小时就要开启真空计并 对其脱气。 如果使用的是经过适当表面处理的不锈钢腔体和 金属密封件,经过120°C 的烘烤温度和约 48 小时的加热过 程,就足以达到 10-10 hPa 的压力范围。

烘烤应该持续进行,直至达到预期极限压力的 100 倍。然后 关闭泵和真空室的加热器。在冷却后,很可能会达到所预期 的极限压力。在压力低于 5 · 10-10 hPa 且内表面积较大时, 将优先使用气体捕集泵(钛升华泵), 这种泵能以大体积流 率抽出从金属中逸出的氢气。

1.3.5 残余气体组成

在超高真空中工作时,重要的是,在开始真空工艺之前或为 了监控工艺过程,需要了解残余气体的组成。如果水的百分 比 (m/e = 18) 及碎片 OH (m/e = 17) 含量很大,那么多是在真 空室不清洁或烘烤不彻底的原因。如果氮 (m/e = 28) 和氧 (m/e = 32) 的-峰值之比 N2/O2大约为4:1,那么可以判定存 在氮泄漏。

可在充分烘烤的腔室中,可以发现氢 (m/e = 2), 水 (m/e = 17 and 18), 一氧化碳 (m/e= 28) 和二氧化碳 (m/e = 44)。 在使用涡轮分子泵时,不会发现碳氢化合物。因为分子泵对 大分子量气体具有大压缩比, 它们有效地抽除在腔室之外。通过涡轮分子泵抽空的清洁容器的典型残余气体谱所图 1.10 所示。
有关使用质谱仪的更多信息见第 6 章“质谱仪和残余气体分 析”。

1.3.6 充气保护

为避免不必要的污染,应该使用干燥的氮气代替空气对真空 室进行充气保护。以防止水蒸气和环境空气中的其它可凝物 (如溶剂蒸汽)沉积(吸附)在容器壁上。与真空腔室抽空 作业相比,解吸过程都是十分缓慢的,所以每种可凝物都会 延长后续的抽空时间。如果已经使用惰性气体对容器进行充 气保护,那么只有在需要在容器内部进行必要作业时才打开 容器。由于维修人员动作造成的对流或由于扩散,长时间打 开容器将会导致环境空气中的水蒸气进入其中。